真空镀膜用钛圆靶材

发布时间：2022-09-01 丨 浏览次数：397398

品 名：真空镀膜用钛靶材

常用材质：

TA1  成分 99.7%

TA2  成分 99.5%

高纯4N成分 99.99%

形状：圆靶块，方靶块，靶板，管靶

钛靶材常见规格：

A.圆靶：

60/65/70/80/85/90/95/98/100/128(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)

B.板靶：

60/80/120(W)×6/8/12(T)×519/525/620(L) 

60-800(W)×6-40(T)×600-2000(L)

C.管靶：

0.1-30.0(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000

执行标准：

国内：GB/T 16598，GB/T2965 等 

美标：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348,MIL-T-9047.

产 地：陕西宝鸡

材 质：钛及钛合金

纯 度：99.99%

制作工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工

钛靶材应用领域：广泛用于五金,装饰,工具,陶瓷,高尔夫球头等镀膜行业。