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真空镀膜用钛圆靶材

发布时间:2022-09-01 丨 浏览次数:415416




品 名:真空镀膜用钛靶材

常用材质:

TA1  成分 99.7%

TA2  成分 99.5%

高纯4N成分 99.99%

形状:圆靶块,方靶块,靶板,管靶

钛靶材常见规格:

A.圆靶:

60/65/70/80/85/90/95/98/100/128(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)

B.板靶:

60/80/120(W)×6/8/12(T)×519/525/620(L) 

60-800(W)×6-40(T)×600-2000(L)

C.管靶:

0.1-30.0(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000

执行标准:

国内:GB/T 16598,GB/T2965 等 

美标:ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348,MIL-T-9047.

产 地:陕西宝鸡

材 质:钛及钛合金

纯 度:99.99%

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

钛靶材应用领域:广泛用于五金,装饰,工具,陶瓷,高尔夫球头等镀膜行业。

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